ノベリオンシステムズ株式会社

自社特徴

当社の強みは、次の2点となります。まず、高度な電磁界シミュレーションおよび計測環境を整え、部品一品一品まで最適化し、極めて強力かつコンパクトなプラズマ源に仕上げていることです。そして、当社協力工場にて精密加工された全ての部品は、当社の清浄な環境で組み立てられ、高い品質を保っていることとなります。その結果、当社の製品は国立研究所や大手半導体製造装置メーカーに、ご採用いただいております。

提供リソース

  •  微細加工装置に適用できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の高出力プラズマ源です.

    【特長】
     ・独創的な磁石構成による大容積ECR磁場
     ・強力な冷却システムによるkW級大電力動作
     ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
     ・複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト

    【装置仕様】
     ・接続真空ポート口径 : Φ120 mm
     ・接続導波管規格 : WR340
     ・適合マイクロ波周波数 : 2.45 GHz
     ・許容マイクロ波電力 : 最大2,000 W
     ・冷却方式 : 水冷

    【応用例】
     ・ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワー
     ・反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源
     ・イオン窒化・酸化装置やDLC成膜装置のプラズマソース
  •  反応性イオンビームミリング装置に適用できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型のラインビームイオン源です.

    【特長】
     ・独創的な磁路設計による均一長尺イオンビーム
     ・新開発の大型同軸導入端子(7/16型)による大電力マイクロ波駆動
     ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
     ・新開発の長寿命ビーム電極

    【装置仕様】
     ・ビームサイズ : 幅150 mm
     ・ビームエネルギー : 100~2,000 eV
     ・ビーム電流密度 : 最大 10 mA/cm2
     ・接続同軸コネクタ規格 : DIN 7/16
     ・適合マイクロ波周波数 : 2.45 GHz
     ・許容マイクロ波電力 : 最大500 W
     ・冷却方式 : 水冷

    【応用例】
     ・MEMS構造体の高速ミリング形成
     ・磁気ヘッドのミリング加工
     ・高周波回路のトリミング調整 など
  •  プラズマ応用装置やイオンビーム装置をリーズナブルなご予算でカスタムメイクいたします.お客様が開発目標に到達されるまで丁寧にサポートします.

    【開発例】
     ・化合物薄膜用スパッタ成膜装置
     ・イオンビームエッチング装置
     ・各種プラズマCVD/エッチング装置
     ・PVDコーティング装置および高速蒸発源
     ・管内面コーティング装置
     ・中性ラジカル処理装置
     ・集光型高フラックスイオンビーム加工装置
     ・超低エネルギー大電流イオンビーム照射装置
     ・汎用真空テストスタンド ほか

実績

【お取引実績】
・産業技術総合研究所 様
・量子科学技術研究開発機構 様
・大手電子部品メーカーE社 様
・大手電子部品メーカーM社 様
・半導体製造装置メーカーN社 様
・大手半導体製造装置メーカーS社 様
・金属加工メーカーK社 様  など

  • ECRラインビームイオン源
  • 高出力ECRプラズマ源
  • 小型ECR原子ビーム源

一緒に何をしたいか

 当社の独自技術であるECRプラズマ源を用いた微細加工装置を開発いたします.

メッセージ

先ずはお気軽にコンタクトをお願いします.

求めている条件

下記条件に合致している企業様は是非コンタクトください

 特殊な電子材料の微細加工に適用できる,当社独自のプラズマ,イオンビーム発生技術による,新しい微細加工プロセスを共同で開発しましょう.
 開発装置の設計/製作は当社が担当いたしますので,デバイスの試作評価をパートナー企業様でお願いします.
 先ずは,どのようなニーズをお持ちか情報交換させてください.

本掲載に関する責任者(オープンイノベーター)

代表取締役

前野 修一

企業情報

企業名
ノベリオンシステムズ株式会社
事業内容
 ノベリオンシステムズは,核融合プラズマ加熱装置用の大電流負イオン源技術を起源とする,技術開発型ベンチャー企業です.

 当社の掲げるビジョンは,
『先進のプラズマ技術で微細加工の未来を拓く!』

 近年のモノのインターネット化(IoT)による各種センサー素子や高周波回路素子の利用の広がりに伴い,圧電薄膜や磁性薄膜など,従来のシリコンプロセス装置では加工困難な材料に対応できる微細加工装置が求められています.

 当社では,このような新規の技術ニーズに応えるべく,酸素や各種の活性ガスが使用できる ECR(電子サイクロトロン共鳴)高密度プラズマ源およびECR大電流イオンビーム源の開発を進めています.

 現在,お客様のご期待に応えうる以下の製品を取り揃えております.

(1)反応性イオンビームミリング装置に適用できる,
  『ECRラインビームイオン源(ELBS-150)』

(2)高速エッチング装置や活性プラズマ処理装置にも適用できる,
  『高出力ECRプラズマ源(EPS-120)』

(3)酸/窒化薄膜形成プロセス装置にて運用実績がある,
  『小型ECR原子状ビーム源(ERS-35)』 

所在地
京都府木津川市木津川台9-6 けいはんなオープンイノベーションセンター105
設立年月日
2006
外資区分
非外資
代表者名
前野 修一
企業URL
http://www.novelion-sys.com
従業員数
〜10人未満
資本金
5百万円〜1千万円未満
売上
20 百万円
上場区分
非上場
主要顧客
・半導体製造装置メーカー ・電子部品メーカー ・公的研究機関 など

メンバー